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『发布时间』2001年4月2日
『生效时间』2001年10月1日
『法规联想』司法解释1篇2次 部门规章4篇13次 法学论文34篇80次 背景资料16篇22次 〖待检类别：法律 行政法规 地方法规 其他文件 案例文书 合同范本 〗
『标 题』集成电路布图设计保护条例
『发布单位』中华人民共和国国务院
（２００１年３月２８日国务院第３６次常务会议通过，自２００１年１０月１日起施行）
第一章 总则
第一条 为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。
『本条联想』法学论文1篇1次 〖待检类别：法律 行政法规 司法解释 部门规章 地方法规 其他文件 案例文书 合同范本 背景资料 〗
第二条 本条例下列用语的含义：
（一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；
（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；
（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；
（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；
（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
第三条 中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。
外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关
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